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桌面實驗涂布機
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平板擠壓狹縫鈣鈦礦涂布機膠水電池基片OLED光電膜導電膜涂覆

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產品概述


適用于片狀基材表面涂覆的設備,選用狹縫模頭涂覆工藝,主要應用于實驗室研發,可在手套箱內工作。本設備主要用于各類型膠水、鋰電池基片、OLED、太陽能光電膜和聚合物導電膜等領域的片式基材的表面涂覆。采用擠壓式涂覆工藝,涂覆精度高、一致性好,涂布窗口較寬;片式擠壓涂覆,涂覆精度高,一致性好; 適合低粘度涂料,薄涂工藝;涂料及基材需求量小,使用方便,適合工藝驗證:涂覆基板帶真空吸附功能;涂敷基板帶加熱功能,溫度可控;可選配多種涂布工藝;可選配風刀模塊進行鈣鈦礦涂布;可選配特殊涂覆板進行隔膜涂覆; 可在手套箱內使用。

技術參數

涂布方式 擠壓狹縫
基材寬度 ≤800 (mm)
速度控制范圍 0-500(m/min)
涂布濕膜厚度 0.01-10(mm)
膜厚均勻度 0.002mm
供料系統 高精度供液泵/齒輪泵/螺桿泵+耐腐蝕管路+魯爾接頭
控制方式 交流伺服+減速機+絲桿+光柵反饋+PLC全自動/觸控屏控制加到表格里 大尺寸觸控屏控制,系統參數可視化
設備尺寸 740 x444x425mm(可定制)
固含量 0-100%
基材固定方式 真空吸附
涂布平臺材質 大理石底座
粘度 1-8000 (cps)
加熱溫度 ≤150℃

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